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平面抛光机适用行业和应用范围
平面抛光机顾名思义就是把一些物体表面的粗糙部分清理掉,达到镜面效果。平面抛光机操作的关键是尽量获得较高的抛光速率,以便尽快去除抛光过程中产生的损伤层。
抛光分两个阶段进行。粗抛光的目的是去除损坏的抛光层,抛光层应具有较高的抛光速率。粗抛光造成的表面损伤是次要考虑的,但也要尽量小。其次,采用精抛光(或Z终抛光)去除粗抛光造成的表面损伤,将抛光损伤降到较低。
用平抛机抛光时,样品的研磨面应与抛光盘相对于比较平行,并均匀轻压在抛光盘上,以免样品因压力过大而飞出,产生新的研磨痕迹。同时,样品要旋转并沿转盘半径方向来回移动,以免抛光织物局部磨损过快。在抛光过程中,应不断加入抛光液或其他抛光添加剂,使抛光后的织物保持一定的湿度。如果湿度过高,抛光的磨痕会减弱,样品中的硬质相会凸起,钢中的非金属夹杂物和铸铁中的石墨相会被拖走。湿度过小时,摩擦热会使样品温度升高,润滑效果降低,研磨面失去光泽,甚至出现黑点。轻合金会甩表面,导致发黄。
粗抛光后,磨削表面光滑,但无光泽,显微镜下观察到均匀而细致的磨痕,需精抛光消除。抛光时,转盘转速可适当提高,抛光时间适当抛掉粗抛光的破损层。抛光后的磨削表面光亮如镜,在显微镜明视野下看不到划痕,但在相差照明条件下仍能看到磨削痕迹。